ファブラインでは、フォトレジストの焼成やウェーハの乾燥時に温度が変動することは、単なる仕様上の問題だけではありません。それによって製造プロセスが中断される可能性もあります。従来のランプでは設定値を維持しようとしますが、周囲の環境が変わると、フィルムに応力が生じたり、汚れや粒子が発生したりして、欠陥検出時に問題となります。
技術的に重要な点 私たちは、短波長のハロゲン/クォーツ素子を使用し、閉ループ制御を施したランプを使用しています。これにより、焼成エリア全体でウェーハの温度を±0.1℃以内に保つことができます。チャンバー内の粒子数はClass 1–100のクリーンルーム基準を満たしており、ランプ自体からは粒子が発生しません。出力の再現性は5,000時間以上にわたって保たれ、強度の変動も5％未満です。そのため、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルも一貫して保たれます。
これがリソグラフィーにおいて重要な理由です。このランプにより、ソフトベイクでもハードベイクでも、フォトレジストの焼成温度を正確に制御できるため、端の部分の問題や残留溶剤の問題が減少します。ウェーハの洗浄や乾燥においては、急速かつ安定した加熱が可能で、熱過剰による問題も避けられます。パッケージングの硬化処理においても、エンクapsulantが変形することなく安定して硬化できます。
その結果、再作業が減少し、CD精度が安定し、信頼性の高い生産が可能になります。
実用上の注意点 これらのランプは新しい装置にも既存の装置にも適用可能ですが、大気との接続部分はガス供給装置や排気装置と連動している必要があります。クリーンルーム対応の配線を計画し、装置の熱処理能力が十分であることを確認してください。使用寿命は長いですが、出力強度は定期的に再調整が必要です。これを予防保守の一環として行えば、再現性を維持できます。