リソグラフィー工程においては、フォトレジストの加熱処理で0.3℃の温度変動があるだけで、最終テスト段階で問題が生じてしまいます。もうやり直すことはできません。そのため、私たちはCE認証を受けた半導体ヒーターを開発しました。これにより、工程中の温度管理が可能になります。
重要なポイント この装置は、石英を利用した熱伝導経路を持つ短波長赤外線素子を使用しているため、素早く温度が上昇し、安定した状態を維持できます。ウェーハ全体の温度均一性は±0.1℃以内に保たれ、再現性も非常に高いため、SPCチャート上でも問題が生じません。また、クリーンルームの規格にも適合しており、粒子の発生も最小限に抑えられています。この装置は24時間365日稼働するために設計されており、保護回路や頑丈な端子によって安定した稼働が実現されます。
フォトレジスト処理における重要性 ソフトベイクやハードベイクの温度は、CDバイアスやサイドウォールプロファイルを直接決定します。正確に制御できれば、再加工や廃棄物の削減、そして再評価の手間も省けます。高い均一性と迅速な温度安定性により、熱による影響を最小限に抑えることができ、生産効率を向上させることができます。また、効率的な放射熱伝達によりエネルギー消費も削減され、処理条件の変動も防げます。結果として、部屋の環境ではなく、工程自体に従った温度管理が実現されます。
設置時の考慮事項 設置時には、空気の流れや取り付けの平らさが重要です。隙間があると、温度の不均一が生じてしまいます。このヒーターは半導体製造に適したCE認証を受けていますが、最終的な適合性は、筐体やインターロック、EMC対策に依存します。事前に電圧やコネクタの向きを明確に指定することが重要です。現場での変更は、不具合の原因になりやすいです。