Mengapa Penggunaan Cahaya Inframerah Untuk Proses Pengeringan Wafer Adalah Cara yang Paling Efektif
Jika anda pernah berada di fasiliti pembuatan semikonduktor, pasti anda tahu tentang kaedah penggunaan ketuhar konvektif. Sebenarnya, ketuhar tersebut merupakan kotak besar yang digunakan untuk memanaskan setiap inci udara agar suhu wafer dapat mencapai tahap yang diinginkan. Ini merupakan pembaziran tenaga yang sangat besar.
Cahaya inframerah pula berfungsi secara berbeza. Ia menghantar tenaga radiasi terus ke permukaan wafer. Cara ini lebih efisien dan tidak membazir tenaga.
Memastikan Suhu yang Tepat Tanpa Pembaziran Tenaga
Dalam proses penyambungan menggunakan bahan penyambung tanpa plumbum, margin kesilapan adalah sangat kecil. Anda memerlukan suhu yang tinggi, dan ia perlu dicapai dengan cepat. Lampu inframerah membolehkan kita mencapai suhu yang tinggi dalam masa beberapa saat sahaja.
Oleh kerana kita tidak perlu memanaskan seluruh ruangan, maka mesin tersebut tidak memerlukan banyak tenaga untuk memanaskan udara. Ini bermakna bil elektrik yang diperlukan juga berkurangan.
Kita menggunakan cahaya inframerah berfrekuensi rendah kerana ia dapat menembusi lapisan pelekat dan permukaan wafer dengan cepat. Dengan cara ini, masalah di mana bahagian tepi wafer terlalu panas sementara bahagian tengah masih sejuk dapat dielakkan. Selain itu, kaedah ini juga membantu mencapai standard ekologi yang ditetapkan pada masa kini.
Cabaran Teknikal dalam Penggunaan Pemanas Inframerah
Menggunakan pemanas inframerah dalam proses pengeringan bukanlah sesuatu yang mudah. Anda perlu menghadapi masalah berkaitan aliran haba yang tinggi. Sistem ini perlu direka agar dapat meningkatkan suhu dan menyejukkan wafer dengan cepat. Ini bagus kerana ia membolehkan kita mengelakkan penggunaan kaedah pemanasan konvensional yang memerlukan banyak tenaga.
Namun, perkara penting yang perlu diperhatikan ialah tetapan PID perlu dilakukan dengan tepat. Jika terdapat kesilapan sedikit pun, suhu wafer akan melebihi had yang ditetapkan. Satu kesilapan saja boleh merosakkan keseluruhan batch wafer yang diproses. Anda juga perlu memastikan kipas penyejuk dan penyerap haba berfungsi dengan baik. Jika haba radiasi tersebut masuk ke dalam badan mesin, ia akan menyebabkan struktur mesin menjadi rosak. Ini tentunya bukan sesuatu yang baik.
Apa Yang Berubah Dengan Penggunaan Cahaya Inframerah
Yang paling baiknya ialah kita tidak perlu lagi bergantung pada pelarut kimia yang digunakan dalam kaedah pengeringan tradisional. Dengan mengurangkan pelepasan bahan kimia berbahaya dan penggunaan tenaga, kita dapat memenuhi standard ekologi tanpa mengorbankan kelajuan proses pengeringan. Kita hanya perlu menggantikan kaedah pemanasan konvensional dengan cahaya inframerah, dan hasilnya masa yang diperlukan untuk mengeringkan wafer akan berkurangan, serta pembaziran tenaga dapat dielakkan.