Op de productielijn is een temperatuurschommeling tijdens het drogen van de fotopolymerlaag of de wafer geen simpel technisch probleem – het kan zelfs leiden tot falen van het productieproces. Oude lampen proberen de ingestelde waarde te behouden, maar wanneer de omgevingsomstandigheden veranderen, ontstaan er spanningen in het materiaal, waardoor er oneffenheden en deeltjes ontstaan die zichtbaar zijn bij het scannen voor defecten.
Wat technisch gezien belangrijk is
Wij gebruiken lampen met kortegolflange halogeen/quarts-elementen en een gesloten thermische controlecyclus. Hierdoor blijft de temperatuur op het niveau van de wafer binnen een marge van ±0,1°C. De kamer blijft schoon, met een beperkt aantal deeltjes volgens klasse 1–100. De lampen zelf zorgen voor geen extra deeltjes. De output-repetitibiliteit blijft boven de 5.000 uur, met minder dan 5% temperatuurschommeling. Hierdoor blijven de parameters voor zowel het zachte als het harde drogen consistent.
Dit is belangrijk in de lithografie: de lampen zorgen voor nauwkeurige temperatuurbesturing, waardoor er minder problemen met oneffenheden en resterende oplosmiddelen zijn. Bij het reinigen en drogen van de wafer zorgt het apparaat voor snelle, gecontroleerde verwarming, zonder dat er te veel warmte wordt gegenereerd. Voor het harden van de encapsulant zorgt het apparaat voor een stabiele temperatuur, zodat de encapsulant niet vervormt.
Het voordeel is dat er minder herwerkingswerk nodig is, de precisie van de CD-waarde blijft constant en de productieefficiëntie blijft hoog.
Enkele praktische tips
Deze lampen kunnen worden gebruikt in nieuwe apparaten of bij renovaties. Echter, de interface met het gasstelsel moet goed worden afgestemd op het apparaat. Zorg ervoor dat de elektrische installatie voldoet aan de eisen van een schone werkomgeving. De levensduur van de lampen is goed, maar de output-intensiteit moet toch regelmatig worden gekalibreerd. Dit moet worden opgenomen in het preventieve onderhoud, zodat de repetitibiliteit behouden blijft.