Op de productielijn mag er geen enkele fout worden gemaakt. Een verschil van 2% in de dikte van de fotoresist of één klein foutje kan al tot grote problemen leiden. De thermische behandeling – zowel het zachte als het harde bakken – is cruciaal voor het behalen van de gewenste resultaten. Standaardlampen leveren echter onnauwkeurigheden op: ze veroorzaken hete plekken en geven ook deeltjes af. Wat nodig is, is een controle op het niveau van de wafer, zodat de processpecificaties worden nageleefd, en niet alleen de ‘toleranties’.
Wat technisch gezien belangrijk is
Wij hebben de lampen zo ontworpen dat er een temperatuurstabiliteit van ±0,1°C heerst over het hele oppervlak van de wafer. Hierdoor blijft de reproduceerbaarheid behouden, zelfs onder strenge thermische omstandigheden. De emissie-eenheden zijn geschikt voor gebruik in een schone ruimte (klasse 1–100) en leveren geen deeltjes af wanneer ze eenmaal stabiel zijn. Kortegolflengteinfrarood zorgt voor snel en contactloos verwarmen, waardoor er minder thermische vertraging optreedt en delicate lagen niet beschadigen. De output blijft binnen 2% binnen 5.000+ uren, en de lampen passen gemakkelijk in standaardvoorzieningen – met vaste spanningen, afmetingen en aansluitingen – zodat ze gemakkelijk kunnen worden vervangen.
Waarom dit werkt in de lithografie
Bij lithografie heeft de fotoresist een precieze thermische behandeling nodig om het verwijderen van oplossingen en het reguleren van de ruwheid van de randen te bevorderen. Daarnaast is een consistente hardere behandeling nodig voordat het materiaal wordt geëtst. Met deze lampen wordt de temperatuur gelijkmatig over het hele oppervlak van de wafer geregeld, waardoor de kwaliteit van het eindproduct verbetert en de defecten afnemen. Er is ook minder afval, en de energieverbruik is lager omdat de koppeling efficiënt is. Operators merken minder schommelingen op, en er is minder onderhoud nodig – waardoor de beschikbaarheid van de apparatuur betrouwbaar blijft.
Wat je moet planten
Deze lampen werken met de meeste platforms, maar de integratie hangt af van de geometrie van de ruimte en de luchtcirculatie. Zorg ervoor dat de verbindingskabels geschikt zijn voor gebruik in een schone ruimte, en zorg dat de luchtcirculatie goed blijft. Voor maximale uniformiteit moet de lamp precies op het midden van het waferoppervlak worden geplaatst, en moet deze worden gekalibreerd met behulp van een thermische sensor. Er zal wat meer tijd nodig zijn om de lamp optimaal te laten werken, maar eenmaal ingesteld, blijft het proces stabiel.