¿Por qué su línea de biosensores sigue dependiendo del aire caliente?
Si ha estado en alguna fábrica de biosensores, sabe bien cuál es el problema. Hay etapas críticas de curado y secado que simplemente toman mucho tiempo.
La mayoría de las fábricas todavía utilizan aire caliente para este proceso. Parece ser la solución estándar, pero en realidad es un gran obstáculo. Piénselo: se calienta todo el aire en la habitación solo para llevar el sustrato a la temperatura adecuada. En realidad, se desperdicia tiempo calentando la habitación antes incluso de comenzar el trabajo real.
Evitando los intermediarios
Aquí es donde entra en juego la radiación infrarroja. En lugar de utilizar aire caliente, la radiación infrarroja actúa directamente sobre el sustrato.
Utilizamos radiación infrarroja de onda corta, ya que es más eficaz. Peneta rápidamente en la superficie y hace que las moléculas vibren al instante. No hay necesidad de esperar a que el calentador funcione. El sustrato alcanza su temperatura objetivo en segundos.
Al dejar de depender del aire caliente, el tiempo necesario para que los equipos estén listos disminuye entre un 60% y un 80%. Eso significa que recuperamos una gran cantidad de tiempo en nuestro día a día.
Control preciso del calor
Cuando hablamos de procesamiento avanzado para semiconductores, lo importante es dónde va esa energía. No se trata de un calor uniforme, sino de un calor dirigido.
Nuestras lámparas están diseñadas para proporcionar ese tipo de calor dirigido. Es posible controlar la distribución del calor. Si solo una parte del sustrato necesita calor, se puede dirigir la energía directamente hacia allí. Así, no hay riesgo de dañar los bordes del wafer o el soporte en el que se encuentra.
El problema… siempre hay uno
Pero la radiación infrarroja no es una solución mágica. Si se aumenta demasiado la potencia, se podrán causar problemas.
Ocurre algo llamado “ensuciamiento de la superficie”: la superficie se seca demasiado rápido, impidiendo que las capas internas respiren o liberen gases. Si se aumenta demasiado la potencia, el sustrato se deformará.
Es necesario controlar bien la velocidad de calentamiento. Se necesita un sistema de control PID eficiente para evitar que las temperaturas superen los límites permitidos. Requiere algo de calibración, pero vale la pena.
La mayoría de las líneas de producción de semiconductores de alta capacidad ya han pasado a utilizar radiación infrarroja. Esto reduce el tamaño de los equipos y, lo que es más importante, permite que los productos salgan más rápido.