
Mengapa Penggunaan Sistem Pemanasan Infra Merah Sangat Efektif untuk Proses Pengolahan Wafer
Jika Anda pernah berada di pabrik semikonduktor, Anda pasti tahu bagaimana cara kerja oven konveksi. Pada dasarnya, oven tersebut merupakan kotak raksasa yang memanaskan setiap inci udara di dalamnya, hanya untuk membuat wafer mencapai suhu yang tepat. Cara ini sangat membuang-buang energi.
Sistem pemanasan infra merah mengubah hal tersebut. Alih-alih memanaskan udara, sistem ini mengirimkan energi radiasi langsung ke permukaan wafer. Cara ini lebih efisien dan efektif.
Mendapatkan Suhu yang tepat Tanpa Pemborosan Energi
Dalam proses penyolderan tanpa timbal, kesalahan dalam penentuan suhu bisa berdampak fatal. Kita membutuhkan tingkat panas yang tinggi, dan itu harus dicapai secepat mungkin. Lampu infra merah memungkinkan kita mencapai suhu maksimal dalam waktu singkat.
Karena kita tidak perlu memanaskan seluruh ruangan, maka mesin tidak perlu memiliki “massa termal” yang besar. Dengan demikian, biaya listrik pun berkurang.
Kita menggunakan gelombang inframerah pendek karena cahaya ini dapat menembus lapisan perekat dan permukaan wafer dengan cepat. Dengan demikian, tidak akan terjadi masalah di mana bagian tepi wafer terlalu panas sementara bagian tengahnya masih dingin. Sistem ini juga membantu mencapai standar lingkungan yang diinginkan saat ini.
Tantangan Teknis dalam Penerapan Sistem Ini
Menggunakan pemanas infra merah bukanlah hal yang sederhana. Kita perlu menghadapi masalah berkaitan dengan aliran panas yang tinggi. Sistem ini dirancang agar dapat meningkatkan suhu dan mendinginkan suhu dengan cepat. Hal ini bagus, karena kita tidak perlu menggunakan sistem pemanasan konvensional yang rumit.
Namun, ada tantangannya: pengaturan PID harus dilakukan dengan sangat precis. Jika pengaturannya salah sedikit saja, suhu wafer akan melebihi batas yang ditentukan. Satu kesalahan saja sudah cukup untuk merusak seluruh wafer yang diproses. Kita juga perlu menggunakan kipas pendingin dan sink panas yang efektif. Jika panas radiasi bocor ke bagian luar mesin, struktur mesin akan rusak. Itu tentu bukan hal yang baik.
Apa yang Dapat Dihasilkan dari Penggunaan Sistem Ini
Hal terbaiknya adalah kita tidak perlu lagi menggunakan bahan kimia berbahaya yang digunakan dalam proses pengeringan tradisional. Dengan menghilangkan emisi VOC dan mengurangi penggunaan energi per wafer, kita dapat memenuhi standar lingkungan tanpa mengorbankan kecepatan proses produksi. Kita hanya perlu mengganti sistem pemanasan konvensional dengan sistem infra merah, dan begitu saja waktu proses produksi berkurang, serta pemborosan energi pun hilang.