Kontrollü atmosferli fırın lambası

Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800

Üretim alanında, foto dirençlerin kurutulması veya wafer’ların kurutulması sırasındaki sıcaklık değişiklikleri sadece bir performans sorunu değildir; bu durum üretimi tamamen bozabilir. Eski tip lambalar belirlenen sıcaklıkları korumaya çalışır; ancak ortam koşulları değiştikçe filmde stres oluşur ve kusurlar meydana gelir.

Teknik açıdan önemli olanlar
Kontrol edilen atmosferde çalışan lambalarımız, kısa dalga boylu halojen/kvarts elemanlara sahiptir ve kapalı döngülü termal kontrol sistemi sayesinde waferlerin sıcaklığı ±0,1°C aralığında sabit tutulur. Odanın temizliği Class 1–100 standartlarına uygun şekilde sağlanır ve lamba kendisi hiçbir parçacık üretmez. Çıkış gücünün tekrarlanabilirliği 5.000 saatten fazla süre boyunca %5’in altında bir değişim gösterir; böylece hem yumuşak hem de sert kurutma işlemleri her seferinde tutarlı kalır.

Litografi yumuşak pişirme ısıtma elemanı

Sat, 06 Jun 2026 04:12:34 +0800

Litografi katında, soft bake sadece bir ısınma işlemi değildir. Bu, çözücü içeriğini sabitleyen, fotoresist yapışmasını belirleyen ve çizgi genişliği kontrolünü doğrudan etkileyen sıkı kontrol edilen bir termal adımdır. Yarım derece sapma TMU’yu değiştirebilir ve bir sıcak nokta, wafer üzerinde tekrarlayan bir defekte dönüşebilir. Isıtma elemanını, bu belirsizliği termal bütçeden çıkarmak için tasarladık.

Trençlerde önemli olan, sistem yoğun çalışırken güvenilir performanstır. Isıtıcı hızlıca stabilize olur, bake yüzeyi boyunca kararlı hali üniformitesi sağlar ve üretim temiz odasında temiz kalır.

Pişir on Advanced IR Heating Technology

Kontrollü atmosferli fırın lambası

Litografi yumuşak pişirme ısıtma elemanı