Kurutma on Advanced IR Heating Technology

MEMS sensör yongası kurutma ısıtıcısı

Wed, 22 Jul 2026 04:43:44 +0800

Kızılötesi Isıtma ile Zorunlu Sıcak Hava Isıtmasının Karşılaştırılması: MEMS Waflarını Kurutmak İçin Daha İyi Bir Yöntem
Eğer bir MEMS üretim tesisinde çalıştıysanız, işleyişin nasıl olduğunu biliyorsunuzdur. Nemli ortamda yapılan işlemlerden sonra, waflardaki nemi uzaklaştırmak gerekiyor. Görüldüğü gibi, eski tesisler hâlâ zorunlu sıcak hava yöntemini kullanıyor. Bu yöntem işe yarıyor elbette, ancak çok yavaştır.

Fabrika kurutma işlemi için enerji denetimi

Sat, 11 Jul 2026 09:12:05 +0800

Kriz anlarında üretim tesisinizi güvende tutmak
Dürüst olalım: Yarı iletken üretim tesislerindeki kurutma aşamaları oldukça riskli bir ortamdır. Etrafta uçuşan kimyasal temizleyiciler, havayı yanıcı hale getirebilir; hatta daha kötüsü, patlayıcı hale getirebilir. Eğer sadece standart kızılötesi lambalar kullanırsanız, bu durum sorun yaratmaya neden olur.

Bunu önlemek için çıplak lambalar yerine, ısıyı istenen yerde tutan ve tehlikeleri dışarıda tutan kapalı bir yapı kullanıyoruz.

Kontrolün sırrı
Kuvars ısıtıcılar son derece yüksek sıcaklıklara ulaşabilir. Kimyasallarla dolu bir odada, küçük bir elektrik arkı veya aşırı ısınan bir yüzey, anında yangına yol açabilir. Bunu engellemek için kızılötesi lambaları patlamaya dayanıklı kapsüller içine yerleştiriyoruz; genellikle yüksek kaliteli kuvars veya takviyeli cam kullanılır. Ayrıca, kimyasallarla temas ettiğinde deforme olmayan contalarla bu kapsülleri sabitliyoruz. Bu sayede ısıtma elemanı ile bu tehlikeli buharlar arasında sağlam bir bariyer oluşur. Basit ama hayat kurtaran bir yöntemdir.

Toptan wafer kurutma lambası

Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800

Üretim alanında hiçbir şekilde gevşeklik kabul edilmez. Fotoresistin kalınlığındaki %2’lik bir değişiklik veya küçük bir sapma bile tüm ürünlerin bozulmasına neden olabilir. Isıl işlemler – yani hafif veya yoğun pişirme işlemleri – ürün kalitesini belirleyen faktörlerdir. Standart lambaların verimi düşüktür; sıcak noktalar oluştururlar ve parçacık üretirler. İhtiyacınız olan şey, süreç özelliklerine uygun olarak wafer seviyesinde kontrol sağlayan bir sistemdir.

Teknik açıdan önemli olanlar
Wafer kurutma lambalarını, wafer yüzeyinde ±0,1°C’lik bir sıcaklık uniformitesi sağlayacak şekilde tasarladık. Bu sayede, sıkı sıcaklık koşulları altında bile tekrarlanabilirlik sağlanır. Emisyon cihazları temiz oda standartlarına uygundur ve çalışmaya başladıklarında hiçbir parçacık üretmezler. Kısa dalga boyundaki kızılötesi ışınlar sayesinde hızlı ve temas gerektirmeyen ısıtma sağlanır; böylece daha az termal gecikme olur ve hassas yapılar zarar görmez. Çıkış değeri 5.000 saatten fazla bir süre boyunca %2 civarında sabit kalır. Lambalar, standart bağlantı noktalarına kolayca takılır.