<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Галоген on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/ru/tags/%D0%B3%D0%B0%D0%BB%D0%BE%D0%B3%D0%B5%D0%BD/</link>
		<description>Recent content in Галоген on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 09 Jun 2026 03:47:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/ru/tags/%D0%B3%D0%B0%D0%BB%D0%BE%D0%B3%D0%B5%D0%BD/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Кварцевый галогенный инфракрасный излучатель</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/ru/posts/quartz-halogen-infrared-emitter/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 03:47:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/ru/posts/quartz-halogen-infrared-emitter/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Кварцевый галогенный инфракрасный излучатель&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии 300 мм недопустимы ошибки при проведении мягкого обжига. Смещение профиля всего на 2°C может сдвинуть контроль критического размера (CD) на нанометры. Такой запас быстро исчезает, если тепловой источник не может удерживать ±0,1°C по всему ваферу или если генерация частиц вызывает внеплановое техническое обслуживание. Кварцевые галогеновые инфракрасные излучатели созданы для работы в таких условиях, где допустимы только стабильность работы и повторяемость.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Технически ключевым параметром является подача энергии. Кварцевые галогеновые излучатели излучают коротковолновое инфракрасное излучение с быстрым откликом и точным управлением спектром, что обеспечивает быструю стабилизацию поверхности вафера. Кварцевый баллон выдерживает высокие температуры и при этом не создает проблем в чистой комнате, а галогеновый цикл поддерживает стабильность выходной мощности в течение тысяч часов. На практике это означает равномерность температуры вафера в пределах ±0,1°C во время обжига фоторезиста и отсутствие генерации частиц, которые могли бы нарушить параметры Class 1–100.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
