Lâmpada de cozimento em atmosfera controlada

Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800

Na linha de produção, as flutuações de temperatura durante o processo de secagem do fotorevestimento ou dos wafers não são apenas um problema relacionado às especificações técnicas – elas podem até mesmo prejudicar todo o processo de produção. As lâmpadas tradicionais tentam manter uma temperatura constante, mas, quando as condições atmosféricas mudam, surgem problemas como tensão na camada de fotorevestimento, formação de impurezas e partículas indesejadas, que aparecem nas análises de defeitos.

O que é importante, do ponto de vista técnico:
Usamos lâmpadas com elementos de halogênio/cuarzo de onda curta, além de controle térmico em circuito fechado, para manter a uniformidade da temperatura ao redor do wafer em ±0,1°C. A câmara mantém o número de partículas em níveis adequados, conforme padrões de salas limpas de classe 1–100. Além disso, a própria lâmpada não gera nenhuma partícula. A repetibilidade do desempenho da lâmpada permanece constante por mais de 5.000 horas, com flutuações de intensidade inferiores a 5%. Assim, os perfis de secagem do fotorevestimento permanecem consistentes de lote em lote.

Elemento de aquecimento para pré secagem em litografia

Sat, 06 Jun 2026 04:12:34 +0800

No piso de litografia, um soft bake não é apenas um aquecimento inicial. Trata-se de uma etapa térmica rigorosamente controlada que fixa o teor de solvente, estabelece a aderência do fotoresiste e influencia diretamente o controle da largura de linha. Uma variação de meio grau pode deslocar o TMU, e um ponto quente pode transformar-se em um defeito repetitivo ao longo da pastilha. Construímos o elemento de aquecimento para eliminar essa incerteza do orçamento térmico.

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Lâmpada de cozimento em atmosfera controlada

Elemento de aquecimento para pré secagem em litografia