<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/nl/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 05 Jun 2026 04:19:27 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/nl/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Nabij infrarood (NIR) emitterlamp</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/nl/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</link>
				<pubDate>Fri, 05 Jun 2026 04:19:27 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/nl/posts/near-infrared-nir-emitter-bulb/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Nabij infrarood (NIR) emitterlamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografievloer weet je hoe het werkt. Een temperatuurverschil van een paar graden is voldoende om kritische afmetingen te verstoren en een heleboel wafers tot schroot te veroordelen. De soft bake en hard bake zijn niet zomaar &amp;ldquo;verhitstappen.&amp;rdquo; Dit zijn de momenten waarop je de oplosmiddelverwijdering vastlegt, filmstress beheert en het thermische budget instelt dat moet overleven tijdens de downstream etch en depositie. Wanneer dat bakprofiel afwijkt, krijg je scumming, hechtproblemen en een ruwe randlijn.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
