<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Groothandel on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/nl/tags/groothandel/</link>
		<description>Recent content in Groothandel on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/nl/tags/groothandel/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Grosshandelslamp voor het drogen van wafers</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/nl/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/nl/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Grosshandelslamp voor het drogen van wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn mag er geen enkele fout worden gemaakt. Een verschil van 2% in de dikte van de fotoresist of één klein foutje kan al tot grote problemen leiden. De thermische behandeling – zowel het zachte als het harde bakken – is cruciaal voor het behalen van de gewenste resultaten. Standaardlampen leveren echter onnauwkeurigheden op: ze veroorzaken hete plekken en geven ook deeltjes af. Wat nodig is, is een controle op het niveau van de wafer, zodat de processpecificaties worden nageleefd, en niet alleen de ‘toleranties’.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
