http://ir-heating-tech.com/ms/tags/suhu/ Recent content in Suhu on Advanced IR Heating Technology Hugo ms Fri, 17 Jul 2026 07:32:49 +0800 http://ir-heating-tech.com/ms/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Fri, 17 Jul 2026 07:32:49 +0800 http://ir-heating-tech.com/ms/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heating-tech.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer"></p> <p><strong>Berhenti membazir tenaga: Mengapa kita menggunakan reflektor emas</strong><br> Marilah kita jujur: pembaziran tenaga semasa proses pemprosesan wafer merupakan contoh reka bentuk yang buruk. Apabila lampu inframerah berkuasa tinggi digunakan, sebahagian besar haba tersebut tidak sampai ke permukaan wafer. Haba tersebut hanya tersebar ke sisi-sisi atau memantul kembali, lalu memanaskan udara di dalam bilik tersebut, bukannya produk yang diproses. Inilah sebabnya kita menggunakan reflektor emas.</p> <p>Kita menggunakan lapisan emas kerana ia merupakan bahan terbaik untuk memantulkan tenaga inframerah. Ia berfungsi seperti cermin yang memantulkan haba tepat ke permukaan wafer.</p> http://ir-heating-tech.com/ms/posts/high-precision-temperature-heater/ Mon, 01 Jun 2026 20:31:35 +0800 http://ir-heating-tech.com/ms/posts/high-precision-temperature-heater/ <p><img src="http://ir-heating-tech.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="Pemanas suhu ketepatan tinggi"></p> <p>Pada lantai pembuatan, <a href="https://o-yate.com">pergeseran</a> 0.5°C semasa proses pemanggangan photoresist sudah cukup untuk menolak dimensi kritikal keluar dari spesifikasi dan membuang seluruh lot. Anda tidak memerlukan janji. Anda memerlukan platform terma yang stabil, <a href="https://o-yate.net">bertukar</a> syif demi syif.</p> <h2 id="apa-yang-penting-di-dalam-sistem">Apa yang penting di dalam sistem</h2> <p>Kami membina pemanas di sekitar pemancar inframerah gelombang pendek dan teras terma yang distabilkan dengan kuarza. Ia mencapai suhu sasaran dengan cepat dan mengekalkan keseragaman pada tahap wafer dalam ±0.1°C. Pakej ini sesuai untuk bilik bersih Kelas 1–100 dan memastikan tiada penghasilan zarah.<br> Gelung kawalan mengekalkan kebolehulangan suhu sasaran di bawah 0.05% walaupun beroperasi 24/7. Keputusan adalah anggaran terma yang boleh dipercayai untuk soft bake, hard bake, dan post-exposure bake—tiada lebihan suhu, tiada kelewatan terma.</p>