<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Panas on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/ms/tags/panas/</link>
		<description>Recent content in Panas on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:11:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/ms/tags/panas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengganti papan panas Pemanas inframerah</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/ms/posts/hot-plate-replacement-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:11:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/ms/posts/hot-plate-replacement-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pengganti papan panas Pemanas inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” tidak boleh dianggap sekadar “langkah suhu” biasa. Sebenarnya, ia merupakan faktor penting yang menentukan profil fotoresist, keseragaman dimensi komponen elektronik, dan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;akhirnya&lt;/a&gt;, kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 1°C, kawasan yang terlalu panas, atau zarah-zarah yang terlepas dari pemanas boleh menyebabkan masalah seperti ketidakseragaman permukaan atau perubahan lebar garis pada permukaan wafer, yang mungkin tidak dapat dikesan semasa pemeriksaan. Kami telah mencipta pemanas pengganti berbasis inframerah untuk mengurangkan risiko tersebut melalui kawalan suhu yang tepat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
