Mentol pemancar inframerah dekat (NIR)

Fri, 05 Jun 2026 04:19:27 +0800

Di lantai litografi, anda tahu prosedurnya. Perubahan suhu beberapa darjah sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal dan menjadikan banyak wafer sebagai sisa. Proses soft bake dan hard bake bukan sekadar “langkah pemanasan.” Di sinilah anda mengunci penghapusan pelarut, mengurus tekanan filem, dan menetapkan anggaran termal yang harus bertahan dalam proses etsa dan pemendapan seterusnya. Apabila profil bake melimpah, anda akan mengalami pengotoran, masalah lekatan, dan kekasaran tepi garis.

Apa yang sebenarnya penting di bawah permukaan Kami menggunakan mentol pemancar inframerah dekat (NIR) yang memberikan haba radian langsung yang cepat dengan kawalan terma yang ketat. Spektrum ini disesuaikan untuk diserap dengan cekap oleh tumpukan fotoresist, jadi anda meminimumkan pemanasan substrat dan mendapatkan respons yang cepat. Di seluruh wafer, kami mengekalkan keseragaman ±0.1°C, jadi setiap die melihat keadaan bake yang sama. Keserasian bilik bersih direka: operasi Kelas 1–100 dengan penghasilan zarah sifar, disokong oleh komponen kuarza dengan pengeluaran gas yang rendah dan sambungan tertutup. Pemancar beroperasi 24/7 dengan output stabil, dan kami menjejak kebolehulangan pada unit yang sama selama lebih daripada 5,000 jam dengan kurang daripada 5% penurunan intensiti.

(NIR) on Advanced IR Heating Technology

Mentol pemancar inframerah dekat (NIR)