<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Jualan Borong on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/ms/tags/jualan-borong/</link>
		<description>Recent content in Jualan Borong on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/ms/tags/jualan-borong/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengeringan wafer secara pukal</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/ms/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/ms/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampu pengeringan wafer secara pukal&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, tiada ruang untuk kesilapan. Perubahan ketebalan lapisan fotoresist sebanyak 2%, atau adanya struktur mikro yang tidak diingini, boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Langkah pemanasan yang betul – sama ada pemanasan lembut atau keras – sangat penting untuk memastikan kualiti produk yang dihasilkan. Lampu biasa akan menyebabkan berlakunya titik panas, dan ia juga menghasilkan zarah-zarah kecil. Apa yang diperlukan ialah kawalan pada tahap wafer itu sendiri, agar ia memenuhi spesifikasi proses yang ditetapkan, bukan sekadar toleransi yang ditetapkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
