Pemanas berasaskan semikonduktor yang telah mendapat kelulusan CE.

Tue, 23 Jun 2026 00:20:17 +0800

Dalam proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.3°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk menyebabkan perbezaan ketebalan garisan yang dicetak, sehingga ia tidak dapat lulus ujian akhir. Anda tidak berpeluang untuk memulakan semula proses tersebut. Kami telah mencipta pemanas semikonduktor yang telah disahkan oleh CE ini untuk memastikan suhu tetap berada dalam julat yang ditetapkan, dari satu sesi pemprosesan ke sesi yang lain.

Apa yang penting dalam reka bentuk ini
Pemanas ini beroperasi menggunakan unsur inframerah gelombang pendek (SWIR), dengan saluran haba yang diperbuat daripada kuarz. Ini membolehkannya mencapai suhu yang diinginkan dengan cepat. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, dan daya ulangan prosesnya sangat baik sehingga grafik SPC tidak akan menunjukkan masalah. Reka bentuk ini mematuhi standard bilik bersih: serasi dengan kelas 1–100, menggunakan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang mengurangkan penghasilan zarah-zarah halus. Reka bentuk ini direka untuk digunakan 24/7, dengan litar perlindungan dan terminal yang mantap untuk memastikan operasi yang stabil.

Disetujui on Advanced IR Heating Technology

Pemanas berasaskan semikonduktor yang telah mendapat kelulusan CE.