Lampu pembakaran dalam suasana terkawal

Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800

Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan fotorezist atau pengeringan wafer bukan sekadar masalah berkaitan spesifikasi sahaja – ia boleh merosakkan keseluruhan proses pengeluaran. Lampu-lampu lama hanya mampu mengekalkan suhu yang ditetapkan, namun apabila keadaan atmosfera berubah, ia akan menyebabkan tekanan pada lapisan fotorezist, serta kemunculan zarah-zarah yang boleh dikesan melalui pemeriksaan kualiti.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan lampu yang mampu mengawal suhu dengan tepat, menggunakan unsur halogen/kwarsa berfrekuensi tinggi, serta sistem kawalan haba tertutup. Ini membolehkan suhu di permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C sepanjang kawasan pembakaran. Bilangan zarah di dalam bilik bersih juga dikawal pada tahap yang rendah, dan lampu tersebut sendiri tidak menghasilkan sebarang zarah. Ketepatan hasil pengeluaran dapat dikekalkan selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti cahaya kurang dari 5%. Dengan ini, proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain.

Dikawal on Advanced IR Heating Technology

Lampu pembakaran dalam suasana terkawal