진공 챔버용 적외선 히터

Wed, 22 Jul 2026 04:57:48 +0800

진공 챔버를 굳이 가열할 필요는 없습니다.
반도체 처리 작업을 해본 사람이라면 그 어려움을 잘 알 것입니다. 웨이퍼를 충분히 가열해야 하지만, 진공 챔버 전체를 오븐처럼 만들고 싶지는 않습니다.
일반적인 적외선 램프는 열을 사방으로 퍼뜨리기 때문에 문제가 됩니다. 그 에너지의 대부분은 웨이퍼에 닿지 못하고 내벽에 부딪힙니다. 곧 챔버의 온도가 너무 높아져서 인체에 해를 줄 수 있으며, 장비의 프레임도 열로 인해 변형될 수 있습니다. 정말 골칫거리죠.
핵심은 열을 원하는 곳에만 집중시키는 것입니다.
그냥 일반적인 석영관을 사용하는 대신, 방향성이 있는 적외선을 사용합니다. 마치 전구 대신 손전등을 사용하는 것과 같습니다. 특수한 반사판과 방출기를 사용함으로써 적외선 에너지를 한 점에 집중시킬 수 있습니다.
그렇게 되면 열이 직접 웨이퍼에 닿게 되고, 벽面의 온도는 상대적으로 낮아집니다. 여전히 원하는 속도로 가열할 수 있지만, 과열된 장비로 인한 문제는 없습니다.
물론 이건 간단한 해결책은 아닙니다. 물리적 원리를 제대로 이해해야 합니다.
우리는 짧은 파장의 적외선을 사용합니다. 왜냐하면 그렇게 하면 진공 상태에서도 에너지를 효과적으로 집중시킬 수 있기 때문입니다. 또한 고순도 석영을 사용하여 가스 배출로 인한 문제를 방지합니다.
하지만 중요한 것은 정밀도입니다.
많은 에너지를 작은 지점에 집중시키면 열의 세기가 매우 강해집니다. 만약 반사판의 위치가 몇 밀리미터만 잘못되어도 웨이퍼가 가열되는 대신 과열된 부분이 생겨나거나 센서가 손상될 수 있습니다. 게다가 남은 열을 처리할 수 있는 냉각 시스템도 필요합니다.
하지만 가장 좋은 점은, 기계를 운영하는 사람들이 더 이상 걱정할 필요가 없다는 것입니다. 벽면이 불필요한 에너지를 흡수하지 않으므로, 외부 패널을 만질 때도 안전합니다. 그러니까 유지보수도 훨씬 수월해집니다.
이 기술을 기존의 PID 컨트롤러와 연동시키면, 하드웨어가 녹아버릴까 봐 걱정할 필요 없이 안정적인 온도 조절이 가능해집니다.

방 on Advanced IR Heating Technology

진공 챔버용 적외선 히터