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		<title>원소 on Advanced IR Heating Technology</title>
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				<title>리소그래피 소프트 베이크 히팅 요소</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;리소그래피 소프트 베이크 히팅 요소&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;리소그래피-제작-현장에서는-소프트-베이크가-단순한-예열이-아닙니다-이는-용매-함량을-고정하고-포토레지스트의-접착력을-설정하며-선폭-조절에-직접-영향을-미치는-엄격하게-제어된-열-단계입니다-반도체-제조에서-반도체-웨이퍼의-특성이-중요하기-때문에-05도-드리프가-tmu를-이동시킬-수-있으며-핫스팟은-웨이퍼-전반에-걸쳐-반복적인-결함으로-이어질-수-있습니다-우리는-이러한-불확실성을-열-예산에서-제거하기-위해-가열-요소를-설계했습니다&#34;&gt;리소그래피 제작 현장에서는 소프트 베이크가 단순한 예열이 아닙니다. 이는 용매 함량을 고정하고 포토레지스트의 접착력을 설정하며 선폭 조절에 직접 영향을 미치는 엄격하게 제어된 열 단계입니다. 반도체 제조에서 반도체 웨이퍼의 특성이 중요하기 때문에, 0.5도 드리프가 TMU를 이동시킬 수 있으며, 핫스팟은 웨이퍼 전반에 걸쳐 반복적인 결함으로 이어질 수 있습니다. 우리는 이러한 불확실성을 열 예산에서 제거하기 위해 가열 요소를 설계했습니다.&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;작업 현장에서 중요한 것은 트랙이 강하게 작동할 때 신뢰할 수 있는 성능입니다. 히터는 빠르게 안정화되고, 베이크 표면 전반에 걸쳐 정상 상태 균일성을 유지하며, 생산 클린룸에서도 청결함을 유지합니다.&lt;/p&gt;</description>
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