Lampada per cottura in atmosfera controllata

Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800

Nelle linee di produzione, le fluttuazioni di temperatura durante la cottura del fotoresisto o la essiccazione dei wafer non rappresentano soltanto un problema legato alle specifiche tecniche: possono addirittura compromettere l’intero processo di produzione. Le lampade tradizionali cercano di mantenere una temperatura costante, ma quando le condizioni ambientali cambiano, si verificano tensioni sui materiali utilizzati, formazione di residui e presenza di particelle che vengono rilevate durante i controlli di qualità.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Utilizziamo lampade dotate di elementi alogenoidi/quartz a breve lunghezza d’onda, con sistema di controllo termico a circuito chiuso. Questo sistema permette di mantenere un livello di uniformità della temperatura entro ±0,1°C nell’intera zona di cottura. La camera di lavoro mantiene un basso numero di particelle, tipico delle ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, la struttura stessa della lampada non genera alcuna particella. La ripetibilità delle prestazioni rimane elevata per oltre 5.000 ore, con una variazione della intensità luminosa inferiore al 5%. In questo modo, i parametri di cottura rimangono costanti da un lotto all’altro.

Atmosfera on Advanced IR Heating Technology

Lampada per cottura in atmosfera controllata