Perché la vostra linea di biosensori è ancora costretta ad aspettare…
Se avete trascorso del tempo in un laboratorio dedicato alla produzione di biosensori, conoscete bene il problema: ci sono fasi critiche di essiccazione e raffreddamento che richiedono molto tempo.
La maggior parte delle aziende utilizza ancora sistemi basati sulla circolazione dell’aria calda. Sembrerebbe essere lo standard, ma in realtà rappresenta un grosso ostacolo. Immaginate: bisogna riscaldare un’enorme quantità d’aria soltanto per portare il substrato alla temperatura desiderata. In pratica, si spreca tempo nel riscaldare l’ambiente prima ancora che inizi il vero lavoro.
Senza intermediari
Ecco dove entra in gioco la radiazione infrarossa. Invece di utilizzare l’aria calda, la radiazione infrarossa agisce direttamente sul substrato. Utilizziamo radiazioni a breve lunghezza d’onda, perché permettono una penetrazione rapida nella superficie del substrato, facendo vibrare le molecole quasi immediatamente. Non c’è bisogno di aspettare che il riscaldatore funzioni: il substrato raggiunge la temperatura desiderata in pochi secondi.
Quando si elimina l’uso dell’aria calda, il tempo necessario per il riscaldamento diminuisce del 60%-80%. È davvero un grande vantaggio.
Calore preciso
Quando si parla di processi di lavorazione avanzata per i semiconduttori, è fondamentale sapere dove va a finire quell’energia. Non si vuole un riscaldamento uniforme, ma un riscaldamento mirato. Le nostre lampade sono progettate apposta per questo scopo: è possibile concentrare l’energia esattamente dove è necessaria. Così non c’è più rischio di danneggiare i bordi del wafer o di rovinare i componenti utilizzati.
L’unica controindicazione…
Tuttavia, la radiazione infrarossa non è una soluzione magica. Se si aumenta troppo la potenza, si possono verificare problemi. Si parla di “essiccazione eccessiva”: quando la superficie si asciuga troppo velocemente, gli strati interni non riescono a respirare o a liberarsi dei gas in eccesso. Se si aumenta troppo rapidamente la potenza, il substrato può deformarsi. Bisogna quindi controllare con attenzione la velocità di riscaldamento. È necessario utilizzare un sistema di controllo preciso per evitare che i valori superino i limiti consentiti. Richiede un po’ di calibrazione, ma ne vale la pena.
La maggior parte delle linee di produzione di semiconduttori ad alta produttività ha già abbandonato l’uso dell’aria calda a favore della radiazione infrarossa. Questo permette di ridurre le dimensioni delle macchine e, cosa ancora più importante, di accelerare il processo di produzione.