<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengeringan on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/id/tags/pengeringan/</link>
		<description>Recent content in Pengeringan on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 22 Jul 2026 04:43:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/id/tags/pengeringan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/id/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 22 Jul 2026 04:43:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/id/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;pemanasan-dengan-sinar-inframerah-vs-udara-panas-yang-dipaksa-cara-yang-lebih-baik-untuk-mengeringkan-wafer-mems&#34;&gt;Pemanasan dengan sinar inframerah vs. Udara panas yang dipaksa: Cara yang lebih baik untuk mengeringkan wafer MEMS&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Jika Anda pernah berada di pabrik pembuatan MEMS, Anda pasti tahu prosesnya. Setelah proses etching atau pembersihan, perlu dilakukan penghapusan kelembapan dari permukaan wafer. Kebanyakan pabrik lama masih menggunakan metode udara panas yang dipaksa. Metode ini memang efektif, tetapi prosesnya lambat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Belakangan ini, semakin banyak insinyur yang beralih ke metode pemanasan dengan sinar inframerah. &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Mengapa&lt;/a&gt;? Karena mereka sudah bosan menunggu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/id/posts/energy-audit-for-fab-drying/</link>
				<pubDate>Sat, 11 Jul 2026 09:12:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/id/posts/energy-audit-for-fab-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mempertahankan Keamanan Pabrik Semikonduktor Saat Situasi Menjadi Ekstrem&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Sejujurnya, proses pengeringan di pabrik semikonduktor merupakan situasi yang sangat berisiko. Ada &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;berbagai&lt;/a&gt; bahan kimia yang digunakan dalam proses ini, dan bahan-bahan tersebut dapat membuat udara menjadi mudah terbakar, atau bahkan meledak. Jika kita menggunakan lampu inframerah biasa di sana, maka kita sebenarnya sedang mencari masalah.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Untuk mengatasi hal ini, kita menggunakan sistem pengemasan yang tertutup rapat. Dengan cara ini, panas tetap terkendali, dan bahaya pun dapat dicegah.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Lampu pengering wafer secara grosir</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/id/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/id/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampu pengering wafer secara grosir&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di pabrik pembuatan chip, tidak ada ruang untuk kesalahan sedikit pun. Perubahan ketebalan lapisan fotoresist sebesar 2%, atau &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;adanya&lt;/a&gt; struktur mikro yang tidak diinginkan, bisa merusak seluruh batch produksi. Proses pemanasan—baik yang bersifat lembut maupun keras—lah yang menentukan keberhasilan proses produksi. Lampu standar memiliki kekurangan: ia menciptakan titik-titik panas dan mengeluarkan partikel-partikel berbahaya. Yang dibutuhkan adalah kontrol pada tingkat wafer itu sendiri, sehingga proses produksi tetap sesuai spesifikasi yang ditetapkan, bukan hanya dalam hal toleransi saja.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
