Lampu pemanggang dengan atmosfer terkendali

Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800

Di lantai produksi, fluktuasi suhu selama proses pemanasan fotoresist atau pengeringan wafer bukanlah sekadar masalah terkait spesifikasi teknis saja; hal ini bisa merusak seluruh proses produksi. Lampu-lampu model lama hanya mampu mempertahankan suhu tetap pada tingkat yang ditentukan. Namun, ketika kondisi lingkungan berubah, akan timbul masalah seperti tekanan pada lapisan fotoresist, adanya kotoran, dan partikel-partikel yang muncul dalam hasil pemeriksaan cacat.

Yang penting secara teknis: Kami menggunakan lampu pemanas dengan elemen halogen/kwartz berfrekuensi pendek, serta sistem kontrol suhu berbasis sirkuit tertutup. Dengan demikian, keseragaman suhu di permukaan wafer dapat dipertahankan pada kisaran ±0,1°C di seluruh area pemanasan. Ruang produksi ini juga memastikan bahwa jumlah partikel di dalamnya tetap rendah, sesuai standar kelas 1–100. Selain itu, komponen lampu itu sendiri tidak menghasilkan partikel apa pun. Repeatabilitas hasil pemanasan tetap tinggi, yaitu lebih dari 5.000 jam, dengan fluktuasi intensitas cahaya kurang dari 5%. Dengan demikian, profil pemanasan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya.

Elemen pemanas pemanggangan lunak litografi

Sat, 06 Jun 2026 04:12:34 +0800

Di lantai litografi, pemanggangan lembut bukan hanya pemanasan awal. Ini adalah langkah termal yang dikendalikan secara ketat yang mengunci kandungan pelarut, menetapkan adhesi fotoresist, dan secara langsung mempengaruhi kontrol lebar garis. Drift setengah derajat dapat menggeser TMU, dan titik panas dapat berubah menjadi cacat berulang di seluruh wafer. Kami membangun elemen pemanas untuk menghilangkan ketidakpastian dari anggaran termal.

Apa yang penting di lapangan adalah kinerja yang dapat diandalkan ketika jalur beroperasi keras. Pemanas cepat stabil, mempertahankan keseragaman keadaan mantap di seluruh permukaan pemanggangan, dan tetap bersih di ruang bersih produksi.

Panggang on Advanced IR Heating Technology

Lampu pemanggang dengan atmosfer terkendali

Elemen pemanas pemanggangan lunak litografi