<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Panas on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/id/tags/panas/</link>
		<description>Recent content in Panas on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:11:14 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/id/tags/panas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengganti papan panas pemanas inframerah</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/id/posts/hot-plate-replacement-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:11:14 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/id/posts/hot-plate-replacement-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pengganti papan panas pemanas inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lini litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” tidak boleh dianggap sekadar “langkah pengaturan suhu”. Kedua proses tersebut merupakan faktor penting yang mempengaruhi kualitas fotoresist, keseragaman dimensi komponen, serta tingkat keberhasilan proses produksi. Perubahan suhu sebesar 1°C, adanya titik panas, atau partikel yang terlepas dari pemanas yang sudah usang dapat menyebabkan masalah seperti ketidakseragaman permukaan wafer atau perubahan lebar garis-garis pada permukaan wafer, sehingga hal tersebut dapat &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;lolos&lt;/a&gt; dari proses inspeksi. Kami merancang pemanas berbasis inframerah ini untuk mengurangi risiko tersebut melalui kontrol suhu yang ketat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
