ई बीम रेजिस्ट बेकिंग हीटर

Sun, 07 Jun 2026 04:00:02 +0800

Out on the lithography floor, e-beam resist bake में 0.3°C का drift “छोटा विचलन” नहीं है। यह एक लाइन-चौड़ाई का विस्थापन है जो अच्छे वेफर को स्क्रैप में बदल देता है। जब आपकी महत्वपूर्ण परतें photoresist के thermal budget पर निर्भर करती हैं, तो परिवर्तन के लिए कोई गुंजाइश नहीं होती। Bake चरण टोन सेट करता है—dose, contrast, और pattern की समग्रता इसी पर निर्भर होती है। अगर हीटर tight uniformity और repeatability बनाए रखने में विफल रहता है, तो आप स्कैनर और resist को एक uphill लड़ाई लड़वा रहे हैं।

बीम on Advanced IR Heating Technology

ई बीम रेजिस्ट बेकिंग हीटर