Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée

Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800

Sur le site de fabrication, les variations de température pendant le séchage du photorésiste ou du wafer ne constituent pas simplement un problème lié aux spécifications techniques : elles peuvent entraîner l’échec d’une production entière. Les lampes traditionnelles cherchent à maintenir une température constante, mais lorsque l’atmosphère change, cela provoque des tensions sur la couche de photorésiste, ainsi que des défauts visibles lors des inspections.

Ce qui est important sur le plan technique
Nous utilisons des lampes à atmosphère contrôlée, équipées d’éléments halogènes/quartz à courte longueur d’onde, avec un contrôle thermique en boucle fermée. Cela permet de maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C dans toute la zone de séchage. La chambre de traitement maintient un nombre de particules inférieur à celui requis pour une salle propre de classe 1–100. De plus, l’assemblage de la Lampe ne produit aucune particule supplémentaire. La répétabilité du rendement de la lampe reste constante pendant plus de 5 000 heures, avec moins de 5 % de dérive de intensité. Ainsi, les profils de séchage restent stables d’un lot à l’autre.

Élément de chauffage pour le préchauffage en lithographie

Sat, 06 Jun 2026 04:12:34 +0800

Sur le plancher de lithographie, un soft bake n’est pas simplement un échauffement. C’est une étape thermique strictement contrôlée qui stabilise la teneur en solvant, fixe l’adhérence du photoresist et influence directement le contrôle de la largeur des lignes. Une dérive d’un demi-degré peut décaler le TMU, et un point chaud peut se transformer en défaut récurrent sur la plaquette. Nous avons conçu l’élément chauffant pour éliminer cette incertitude dans le budget thermique.

Cuire Au Four on Advanced IR Heating Technology

Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée

Élément de chauffage pour le préchauffage en lithographie