<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bake on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/fa/tags/bake/</link>
		<description>Recent content in Bake on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/fa/tags/bake/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ پخت با فضای کنترلشده</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/fa/posts/controlled-atmosphere-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 05:04:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/fa/posts/controlled-atmosphere-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;لامپ پخت با فضای کنترلشده&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در خط تولید، تغییرات دما در حین فرآیند پختن فوتورزیست یا خشک کردن ویفرها، صرفاً مشکلی مربوط به استانداردها نیست؛ بلکه می‌تواند باعث شکست کل فرآیند تولید شود. لامپ‌های قدیمی، دمای مورد نظر را حفظ می‌کنند؛ اما هنگامی که شرایط محیطی تغییر کند، باعث ایجاد تنش در فیلم فوتورزیست، وجود ذرات ناخواسته و مشکلات دیگر می‌شود که در بررسی‌های کیفیت مشاهده می‌شوند.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;از نظر فنی، چه چیزی اهمیت دارد؟&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ما از لامپ‌هایی با عناصر هالوژنی/کوارتزی با طول موج کوتاه و سیستم کنترل حرارتی بازخوردی استفاده می‌کنیم؛ این سیستم، یکنواختی دما در سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد حفظ می‌کند. این سیستم، تعداد ذرات در اتاق‌های تمیز را در حد کلاس ۱–۱۰۰ نگه می‌دارد؛ همچنین، خود لامپ نیز هیچ ذره‌ای تولید نمی‌کند. قابلیت تکرارپذیری خروجی لامپ، بیش از ۵۰۰۰ ساعت است؛ همچنین، تغییرات شدت نور کمتر از ۵ درصد است؛ بنابراین، پروفایل‌های فرآیند پختن فوتورزیست در هر بار تولید، یکنواخت باقی می‌ماند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>عنصر حرارتی پخت نرم لیتوگرافی</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/fa/posts/lithography-soft-bake-heating-element/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 04:12:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/fa/posts/lithography-soft-bake-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;عنصر حرارتی پخت نرم لیتوگرافی&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در سطح لیتوگرافی، یک پخت نرم تنها یک گرم کردن نیست. این یک مرحله حرارتی به شدت کنترل‌شده است که محتوای حلال را قفل می‌کند، چسبندگی فوتورزیست را تنظیم می‌نماید و به طور مستقیم بر کنترل عرض خط تأثیر می‌گذارد. یک خطای نیم درجه‌ای می‌تواند TMU را تغییر دهد و یک نقطه داغ می‌تواند به یک عیب تکراری در سراسر ویفر تبدیل شود. ما عنصر حرارتی را طوری طراحی کردیم که این عدم قطعیت را از بودجه حرارتی حذف کند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
