Quarz Halogen Infrarotstrahler

Tue, 09 Jun 2026 03:47:06 +0800

Auf einer 300-mm-Linie darf man beim Soft-Bake nicht nachlässig sein. Eine Abweichung von nur 2 °C im Profil kann die Kontrolle der kritischen Dimension (CD) um Nanometer verschieben. Dieser Spielraum verschwindet schnell, wenn die Wärmequelle nicht ±0,1 °C über dem Wafer halten kann – oder wenn die Partikelerzeugung ungeplante präventive Wartung erzwingt. Quarz-Halogen-Infrarotstrahler wurden für diese Art von Umgebung entwickelt, in der Betriebszeit und Wiederholgenauigkeit die einzigen akzeptablen Einstellungen sind.

Technisch betrachtet ist die Energieübertragung entscheidend. Quarz-Halogenstrahler geben kurzwellige Infrarotstrahlung mit schneller Reaktion und enger spektraler Kontrolle ab, sodass die Waferoberfläche schnell stabilisiert wird. Der Quarz-Umschlag hält hohen Temperaturen stand und verhält sich dennoch im Reinraum unproblematisch, während der Halogenzyklus die Ausgangsleistung über Tausende von Stunden konstant hält. Praktisch bedeutet das, dass die Temperaturgleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1 °C während des Fotolack-Bakens liegt – und keine Partikelerzeugung, die Ihre Klasse 1–100-Spezifikationen gefährdet.

Halogen on Advanced IR Heating Technology

Quarz Halogen Infrarotstrahler