Sušení on Advanced IR Heating Technology

Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS

Wed, 22 Jul 2026 04:43:45 +0800

Vyhřívání infračerveným zářením oproti nutně proudícímu horkému vzduchu: Lepší způsob sušení waferů MEMS

Pokud jste někdy strávili čas v továrně na výrobu MEMS komponent, znáte ten postup. Po mokrém leptání nebo čištění je potřeba odstranit vlhkost z waferů. Většina starších zařízení stále využívá nutně proudící horký vzduch. Funguje to sice, ale je to pomalé.
V poslední době se stále více inženýrů přechází na využití infračerveného záření. Proč? Protože už mají dost čekání.

Problém s „čekáním na správnou teplotu“

Horký vzduch představuje pomalý proces – je potřeba nejprve ohřát vzduch, který poté ohřeje celou komoru a nakonec i wafer. Je tu spousta prostředníků. V provozech s vysokou kapacitou se toto zpoždění stává velkou překážkou.
Vyhřívání infračerveným zářením tento problém odstraňuje. Místo ohřevu místnosti působí zářivá energie přímo na povrch waferu.
K dosažení tohoto efektu používáme vysokofrekvenční infračervené emitory. Ty způsobují, že molekuly vody vibrují téměř okamžitě, čímž se rychle přemění na páru. Nemusíte čekat, až ventilátor dosáhne správné teploty. Doba sušení se tak zkrátí z minut na několik sekund. Je to obrovský rozdíl.

Energetický audit pro sušení výrobků

Sat, 11 Jul 2026 09:12:07 +0800

Jak chránit vaši výrobní linku v dobách neklidu

Buďme upřímní: fáze sušení v halách na výrobu polovodičů mohou být opravdu napjaté. V takovém prostředí se pohybují chemikálie, které mohou udělat vzduch hořlavým – nebo ještě horší, výbušným. Pokud do toho prostředí použijete běžné infračervené lampy, v podstatě si přivoláváte problémy.

My to řešíme tím, že odmítáme používání obyčejných žárovek. Místo toho používáme uzavřené konstrukce, které udržují teplo tam, kde má být, a zabráníni tak nebezpečí.

Velkoobchodní lampa na sušení destiček

Thu, 18 Jun 2026 04:34:06 +0800

V továrnách na výrobu polovodičů neexistuje žádné pole pro chyby. I odchylka o 2 % v tloušťce fotorezistu nebo jediný „mikropřemostek“ mohou zničit celou várku. Právě během tepelné úpravy – ať už jde o měkké nebo tvrdé zahřívání – závisí kvalita výrobku. Standardní lampy mají problémy s rovnoměrností teploty; vytvářejí „horká místa“ a uvolňují částice. Potřebujete tedy kontrolu na úrovni waferu, která splní specifikace procesu, nikoliv pouze tolerance.

Co je technicky důležité
Vytvořili jsme lampy na sušení waferů tak, aby zajistily rovnoměrnost teploty v rozsahu ±0,1 °C po celé ploše waferu. Tyto lampy mají kontrolu v uzavřeném obvodu, což zajišťuje opakovatelnost i za velmi přísných podmínek. Emitory jsou vhodné pro použití v čistých prostorách – určené pro třídu 1–100 – a po nastavení fungují bez uvolňování částic. Krátkovlnné infračervené záření umožňuje rychlé a bezkontaktní zahřívání, takže dochází k menšímu tepelnému zpoždění a není narušován křehký struktura waferu. Výstupní hodnota zůstává v rozmezí 2 % po dobu více než 5 000 hodin. Lampy se také snadno instalují do standardních portů – s definovaným napětím, rozměry a konektory – což usnadňuje jejich výměnu.