<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on Advanced IR Heating Technology</title>
		<link>http://ir-heating-tech.com/cs/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on Advanced IR Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 22 Jul 2026 04:43:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-tech.com/cs/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS</title>
				<link>http://ir-heating-tech.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 22 Jul 2026 04:43:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-tech.com/cs/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-tech.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;vyhřívání-infračerveným-zářením-oproti-nutně-proudícímu-horkému-vzduchu-lepší-způsob-sušení-waferů-mems&#34;&gt;Vyhřívání &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;infra&lt;/a&gt;červeným zářením oproti nutně proudícímu horkému vzduchu: Lepší způsob sušení waferů MEMS&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pokud jste někdy strávili čas v továrně na výrobu MEMS komponent, znáte ten postup. Po mokrém leptání nebo čištění je potřeba odstranit vlhkost z waferů. Většina starších zařízení stále využívá nutně proudící horký vzduch. Funguje to sice, ale je to pomalé.&lt;br&gt;&#xA;V poslední době se stále více inženýrů přechází na využití infračerveného záření. Proč? Protože už mají dost čekání.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;problém-s-čekáním-na-správnou-teplotu&#34;&gt;Problém s „čekáním na správnou teplotu“&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Horký vzduch představuje pomalý proces – je potřeba nejprve ohřát vzduch, který poté ohřeje celou komoru a nakonec i wafer. Je tu spousta prostředníků. V provozech s vysokou kapacitou se toto zpoždění stává velkou překážkou.&lt;br&gt;&#xA;Vyhřívání infračerveným zářením tento problém odstraňuje. Místo ohřevu místnosti působí zářivá energie přímo na povrch waferu.&lt;br&gt;&#xA;K dosažení tohoto efektu používáme vysokofrekvenční infračervené emitory. Ty způsobují, že molekuly vody vibrují téměř okamžitě, čímž se rychle přemění na páru. Nemusíte čekat, až ventilátor dosáhne správné teploty. Doba sušení se tak zkrátí z minut na několik sekund. Je to obrovský rozdíl.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
